Вольфрамовый лист 1х80х260 мм В-МП в Оренбурге

Поверхностная обработка, такая как полировка или травление, критически влияет на применение листа ВР-27ВП в качестве подложки. Она обеспечивает необходимую чистоту, плоскостность и шероховатость поверхности для равномерного осаждения пленок и адгезии, что важно для полупроводниковой и оптической промышленности.

Толщина 0.05 мм оптимальна для фольги, используемой в качестве источника для вакуумного испарения. Тонкий лист обеспечивает быстрый и равномерный нагрев, эффективное испарение вольфрама для создания тонких пленок, а также минимальную термическую инерцию системы.

Преимущества применения вольфрамового листа в качестве мишеней для ионной имплантации заключаются в его высокой плотности, высоком атомном номере и высокой температуре плавления. Эти свойства обеспечивают эффективное торможение ионов, минимизируют распыление и позволяют работать с высокими токами.

К вольфрамовому листу, учитывая его хрупкость при комнатной температуре, применимы виды формовки только при нагреве. Это включает горячую прокатку, гибку, штамповку и вытяжку при температурах выше 400-600°С, что обеспечивает необходимую пластичность материала.

Целостность кромки листа при высоких температурах обеспечивают методы механической обработки, такие как шлифовка, и лазерная резка с оптимизированными параметрами. Это предотвращает образование микротрещин и дефектов, которые могут стать источником разрушения при термическом воздействии.

В высокотехнологичном прототипировании вольфрамовый лист используется для создания функциональных элементов, требующих высокой прочности и стабильности при экстремальных температурах. Это могут быть микронагреватели для датчиков, прототипы компонентов термоядерных реакторов или сверхтонкие мембраны.

Для работы в среде азотной кислоты с концентрацией 70% при 60°С вольфрамовый лист непригоден. Вольфрам подвержен интенсивной коррозии в горячих концентрированных окислительных кислотах, включая азотную, образуя вольфрамовую кислоту.